Die TKF 3-Einseiten-Gasversorgungsventilgruppe für Flaschenstationen richtet sich an Käufer, die zentrale Gasversorgungsschaltsysteme für die Versorgung mit hochreinem Gas, Prozessgassysteme für die Halbleiterindustrie, Laborgasanlagen, Flaschenschränke und industrielle Fluidsteuerungsprojekte vergleichen. Sehen Sie sich die Produktdetails und Bilder unten an und vergleichen Sie anschließend verwandte Kuzu-Fluidgeräte, um passende Bezugsquellen zu finden.
Strukturelle Merkmale der einseitigen Gaszufuhrventilgruppe TKF-3:
Verwendung eines einstufigen Druckminderers
Membranventilknopf mit Schalteranzeigefenster
Die innere Struktur eignet sich gut zum Blasen und Fegen.
Kann mithilfe von Verteileranschlüssen erweitert werden.
Verwendung einer Wandmontage
Optionale Druckalarmvorrichtung
Optionales abnehmbares Manometer
Technische Parameter der einseitigen Gasversorgungsventilgruppe TKF-3:Maximaler Eingangsdruck: 3000 PSI
Ausgangsdruck: 0-25 PSI, 0-50 PSI
0-100 psig, 0-250 psig
Prüfdruck: 1,5-facher Eingangsdruck für Sicherheitsprüfungen
Betriebstemperatur: -40 °C bis +100 °C
Leckrate des Druckreglers: 2x10-8 atm cm³/s He
CV:0,08
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Geben Sie die IP-Schutzart, die maximale statische Belastbarkeit für Flaschengestelle und die zertifizierte Klassifizierung explosionsgeschützter Zonen (z. B. ATEX/IECEx Zone 1) an. Geben Sie die Materialverträglichkeit für korrosive Gase (z. B. Cl₂, NH₃) an. Anwendungsszenarien: Gefährliche Umgebungen wie Chemielabore, industrielle Gaslager oder Halbleiterfabriken, in denen Leckagen vermieden und Zündquellen isoliert werden müssen.
Geben Sie die Genauigkeit der Druckregelung (z. B. ±0,5 % FS), die Eingangs-/Ausgangsdruckbereiche (bar) und die Durchflusskapazität (Nm³/h) detailliert an. Klären Sie die Konformität mit ISO 2503 für medizinische/Laborgassysteme. Anwendungsszenarien: Präzise Gasregelung in HPLC-Instrumenten, Laserschneidmaschinen oder Biopharma-Reaktoren, die einen stabilen Druck bei Durchflussschwankungen erfordern.
Geben Sie die Partikelrückhalterate (µm) für VCR-Membranventile, die maximale Zyklusfrequenz (Zyklen/min) und die zulässige Flüssigkeitsviskosität (cP) an. Fügen Sie Temperatur-/Druckkurvendaten für dampfgereinigte Baugruppen bei. Anwendungsszenarien: Handhabung von hochreinen Gasen/Flüssigkeiten bei der Verarbeitung von Halbleiterwafern, der Impfstoffproduktion oder in Nuklearanlagen, die eine Kontaminationsfreiheit erfordern.
