Einseitige Gasversorgungsventilgruppe TKF-3 Strukturmerkmale:
Einsatz eines einstufigen Druckminderers
Membranventilknopf mit Schaltanzeigefenster
Die innere Struktur ist praktisch zum Blasen und Kehren
Erweiterbar durch Verteilerarmaturen
Wandmontage
Optionales Druckalarmgerät
Optionales abnehmbares Manometer
Einseitige Gasversorgungsventilgruppe TKF-3 Technische Parameter:Eingangsdruck max.: 3000 PSI
Ausgangsdruck Ausgangsdruck: 0–25 PSI, 0–50 PSI,
0–100 psig, 0–250 psig
Prüfdruck: 1,5-facher Eingangsdruck für Sicherheitsprüfungen
Betriebstemperatur: -40 °C ~ +100 °
Leckrate des Druckreglers: 2x10-8 atm cc/sec He
CV:0,08



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Geben Sie die IP-Schutzart, die maximale statische Belastbarkeit für Flaschengestelle und die zertifizierte Klassifizierung explosionsgeschützter Zonen (z. B. ATEX/IECEx Zone 1) an. Geben Sie die Materialverträglichkeit für korrosive Gase (z. B. Cl₂, NH₃) an. Anwendungsszenarien: Gefährliche Umgebungen wie Chemielabore, industrielle Gaslager oder Halbleiterfabriken, in denen Leckagen vermieden und Zündquellen isoliert werden müssen.
Geben Sie die Genauigkeit der Druckregelung (z. B. ±0,5 % FS), die Eingangs-/Ausgangsdruckbereiche (bar) und die Durchflusskapazität (Nm³/h) detailliert an. Klären Sie die Konformität mit ISO 2503 für medizinische/Laborgassysteme. Anwendungsszenarien: Präzise Gasregelung in HPLC-Instrumenten, Laserschneidmaschinen oder Biopharma-Reaktoren, die einen stabilen Druck bei Durchflussschwankungen erfordern.
Geben Sie die Partikelrückhalterate (µm) für VCR-Membranventile, die maximale Zyklusfrequenz (Zyklen/min) und die zulässige Flüssigkeitsviskosität (cP) an. Fügen Sie Temperatur-/Druckkurvendaten für dampfgereinigte Baugruppen bei. Anwendungsszenarien: Handhabung von hochreinen Gasen/Flüssigkeiten bei der Verarbeitung von Halbleiterwafern, der Impfstoffproduktion oder in Nuklearanlagen, die eine Kontaminationsfreiheit erfordern.