• EP-Hochreingaspipeline für Halbleiterprozesssysteme
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EP-Hochreingaspipeline für Halbleiterprozesssysteme

    Die EP-Hochreingasleitung für Halbleiterprozessanlagen ist für die Zufuhr von Reingasen konzipiert. Elektropolierte Leitungsoberflächen gewährleisten Kontaminationskontrolle, einen stabilen Gasfluss und eine zuverlässige Installation in Reinraumumgebungen.

    Technischer Überblick über die EP-Hochreinheitsgaspipeline für Halbleiterprozesssysteme

    Die EP-Hochreinheitsgasleitung für Halbleiterprozesssysteme richtet sich an Käufer, die verschiedene Leitungsserien für die Versorgung mit hochreinem Gas, Halbleiterprozessgassysteme, Laborgasanlagen, Gasflaschenschränke und industrielle Fluidsteuerungsprojekte vergleichen. Sehen Sie sich die Produktinformationen und Bilder unten an und vergleichen Sie anschließend verwandte Kuzu-Fluidgeräte, um passende Bezugsquellen zu finden.

    Bestellleitfaden

    1/4 "sus316L EP (6,35 x 0,89 x 4000 mm) Entfettung und Entfettungsbehandlung + elektrolytisches Polieren + Vakuumverpackung

    3/8 "sus316L EP (9,53 x 0,89 x 4000 mm) Entfettung und Entfettungsbehandlung + elektrolytisches Polieren + Vakuumverpackung

    1/2 "sus316L EP (12,7 x 1,24 * 4000 mm) Entfettung und Entfettungsbehandlung + elektrolytisches Polieren + Vakuumverpackung

    3/4 "sus316L EP (19,05 x 1,65 x 4000 mm) Entfettung und Entfettungsbehandlung + elektrolytisches Polieren + Vakuumverpackung

    1 "sus316L EP (25,4 x 1,65 x 4000 mm) Entfettung und Entfettungsbehandlung + elektrolytisches Polieren + Vakuumverpackung

    EP high purity pipeline


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    Häufig gestellte Fragen

    Was ist eine EP/BA-Hochreinheitsgasleitung?
    Elektropolierte (EP) und blankgeglühte (BA) Edelstahlrohre für die Zufuhr von Gasen höchster Reinheit in Halbleiter- und Prozesssystemen.

    Welche Reinheitsgrade unterstützt es?
    UHP-Gassysteme mit niedrigem Partikel- und Feuchtigkeitsgehalt; die Spezifikationen werden auf Ihren Prozess abgestimmt.

    Welche Größen und Normen sind verfügbar?
    Verschiedene Rohrgrößen mit Orbitalschweißung und SEMI-Standardkonformität.

    Bieten Sie auch Planung und Installation an?
    Ja, wir bieten Unterstützung bei der Planung, Fertigung und Installation von Gasversorgungssystemen.

    Wird eine Dokumentation bereitgestellt?
    Ja, Materialzertifikate, Schweißnaht- und Reinheitsdokumentation.

    Was benötigen Sie für ein Angebot?
    Gasart, Reinheit, Rohrgröße, Anordnung und Normen.

    Fordern Sie ein maßgeschneidertes Angebot an

    Senden Sie uns Ihre Gasart, den Reinheitsgrad und die geplante Streckenführung – unsere Ingenieure entwerfen die passende Reinstgasleitung. Kontaktieren Sie uns, um Ihr Projekt zu starten.

    • Wie kann ich das gesamte Sortiment an Druckminderventilen von KUZU einsehen?

      Besuchen Sie unsere Website zur Reduzierventilserie. Entdecken Sie Industrieregler für Labore, Gaspipelines und hochreine Systeme. Spezifikationen und Zertifizierungen stehen zum Download bereit.

    • Bietet KUZU Lösungen für die zentrale Gasversorgung an?

      Ja. Navigieren Sie auf unserer Website zur Gasversorgungs-Umschaltserie. Entdecken Sie automatisierte Schalttafeln, Verteiler und sicherheitsintegrierte Systeme gemäß ISO 13485 für Labore und medizinische Einrichtungen.

    • ​​Intelligenter explosionsgeschützter Gasflaschenschrank und -ständer​

      Geben Sie die IP-Schutzart, die maximale statische Belastbarkeit für Flaschengestelle und die zertifizierte Klassifizierung explosionsgeschützter Zonen (z. B. ATEX/IECEx Zone 1) an. Geben Sie die Materialverträglichkeit für korrosive Gase (z. B. Cl₂, NH₃) an. ​​Anwendungsszenarien: Gefährliche Umgebungen wie Chemielabore, industrielle Gaslager oder Halbleiterfabriken, in denen Leckagen vermieden und Zündquellen isoliert werden müssen.

    • Enddruckminderventilbaugruppe​

      Geben Sie die Genauigkeit der Druckregelung (z. B. ±0,5 % FS), die Eingangs-/Ausgangsdruckbereiche (bar) und die Durchflusskapazität (Nm³/h) detailliert an. Klären Sie die Konformität mit ISO 2503 für medizinische/Laborgassysteme. ​​Anwendungsszenarien: Präzise Gasregelung in HPLC-Instrumenten, Laserschneidmaschinen oder Biopharma-Reaktoren, die einen stabilen Druck bei Durchflussschwankungen erfordern.

    • VCR Pneumatisches Membranventil​

      Geben Sie die Partikelrückhalterate (µm) für VCR-Membranventile, die maximale Zyklusfrequenz (Zyklen/min) und die zulässige Flüssigkeitsviskosität (cP) an. Fügen Sie Temperatur-/Druckkurvendaten für dampfgereinigte Baugruppen bei. ​​Anwendungsszenarien: Handhabung von hochreinen Gasen/Flüssigkeiten bei der Verarbeitung von Halbleiterwafern, der Impfstoffproduktion oder in Nuklearanlagen, die eine Kontaminationsfreiheit erfordern.

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